相沉积

  • 网络CVD; MOCVD; PECVD

相沉积相沉积

相沉积

CVD

...精馏提纯,提纯后的三氯氢硅在氢还原炉内进行化学气 相沉积CVD)反应生产高纯多晶硅。

MOCVD

[摘要] 本发明公开了一种双波长单芯片发光二极管,属于半导体照明领域和金属有机化学气 相沉积(MOCVD)技术领域。该器件 …

PECVD

...限于氮化物或氧化物村里, 也可使用其它的应 力衬里材料。 形成应力衬里的方法包括但不限于等离子体增 强化学气 相沉积 (

PCVD

并可与多弧离子镀膜设备、磁控溅射设备及等离子体增强化学气 相沉积PCVD)等设备配套使用。其成果获“武汉市科技进步 …

HWCVD

1.2 研究内容与方法 1.2.1 硅锗薄膜制备方法 制备非晶硅锗薄膜的方法有多种,目前常用的是 PECVD 和热丝化学气 相沉积H

HFCVD

...超声波 浴粉, 并积极偏见在钻石生长在热丝化学气 相沉积HFCVD)系统,以提高成核 TION 密度和电子轰击钻石品质 ME…

Chemical Vapor Deposition-CVD

...l Evaporation)等;化学方法有化学气 相沉积(Chemical Vapor Deposition-CVD)、金属有机化合物气 相外延法(Metal Organic …

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